快平息。
“提高功率档位！”陈延森继续说道。
EUV光刻机的功率直接决定单位时间内的晶圆处理数量，每一次曝光都需足够的EUV光能量触发光刻胶的光化学反应。
若光源功率低，需延长单次曝光时间或增加脉冲次数，才能满足能量需求，导致单晶圆处理时间变长。
比如200W功率的机型每小时可处理约125片晶圆，而250W机型可提升至每小时170片，产能提升近40%。
技术差一点，就是差了一大截！
而且功率越高，单位晶圆的光刻成本就越低，规模化优势就越强。
闻言，林南立刻收敛心神，右手在控制台上快速滑动，目光紧盯着功率调节界面：“收到！当前目标档位220瓦，升压速率已调至安全阈值，避免等离子体不稳定。”
控制台屏幕上，代表光源功率的数字开始缓慢爬升，每一个数值的跳动，控制室内的呼吸声就跟着沉重一分。
137瓦、168瓦、214瓦……
当数字稳稳停在220瓦时，林南立即看向一旁的光源稳定性监测曲线。
那条代表等离子体约束状态的绿色线条，始终保持着平稳的波动，没有出现任何异常的尖峰或骤降。
系统运行稳定！
“功率稳定在220瓦！等离子体约束状态良好，没有出现能量泄漏！”
林南的声音比刚才响亮了几分，紧绷的肩膀也稍稍放松了一些，脸上绽放出一抹旁人看不见的灿烂笑容。
作为国产第一台EUV光刻机的核心研发人员，那是妥妥能登上教科书、评院士、留名青史的人。
他连忙深吸了一口气，强行控制住自己的情绪。
陈延森微微颔首，转头看向章延杰：“光学系统同步适配，检查光束匀化效果。”
章延杰立马调出照明光学模块的实时数据，屏幕上弹出一组光束截面分布图。
淡紫色的光斑均匀地覆盖在模拟掩模区域，边缘没有出现丝毫能量衰减的阴影。
“陈老师，光束匀化度99.2%，符合220瓦功率下的光学适配要求，成像光学系统已完成自动对焦校准！”
章延杰扬声回应道。
这一次，控制室内的骚动比方才更加明显。
有人悄悄抹了把眼角，还有人用拳头轻轻捶了下桌面。
从107瓦到220瓦，不仅仅是数字的提升，更是证明他们的MCDE-EUV光源既能“点亮”，也能在更高功率下保持稳定，这意味着量产的可能性又近了一步。
功率是制约工艺节点的重要因素！
制程微缩需实现更小的线宽和间距，要求EUV光具备更高的光学对比度，而功率是对比度的核心支撑。
220瓦的稳定功率，足以满足7纳米制程的芯片生产所需。
陈延森嗯了一声，接着吩咐道：“准备晶圆台与掩模台同步测试，加载测试晶圆，按28纳米制程参数设置曝光程序。”
汪象朝马上响应：“测试晶圆已通过机械臂送入预对准工位，掩模台已加载28纳米标准电路掩模版，同步精度校准中。”
顷刻间，众人的视线重新聚焦在主监控屏上。
屏幕被分成了四个画面：左上角是光源功率与等离子体状态，右上角是光学系统的光束分布，左下角是晶圆台的实时坐标，右下角则是掩模台的运动轨迹。
随着汪象朝按下按钮，两个精密平台迅速移动，它们的运动轨迹像两条精准咬合的齿轮，每一次微调都控制在0.1纳米以内。
“同步精度0.08纳米！已达预设标准！”
汪象朝说道。
陈延森看了一眼时间，此刻是晚上8点37分，距离真空泵启动已经过去了半个多小时。
他俯下身子，对着麦克风，向实验室的工作人员叮嘱道：“曝光开始，单次曝光时间设置为0.5秒，记录所有参数。”
核心腔室的观察窗内，淡紫色的微光骤然亮了一下，旋即恢复柔和。
光路末端的探测器疯狂刷新着数据，屏幕上跳出一行行代表“曝光能量密度”、“线宽均匀度”、“图形套刻精度”的数值。
每一个数字都在朝着合格的方向靠近！
0.5秒的时间，却像一个世纪那么漫长。
当曝光完成的提示音在控制室内响起时，汪象朝立刻操控机械臂将测试晶圆移出，送往检测室。
一行人都跟了过去，连脚步都变得急促起来。
在精密的EUV掩模版检测仪下，当第一张晶圆的光刻图案清晰显示在屏幕上时，现场彻底沸腾了。
线条细如蛛丝，却没有一丝断裂或模糊，每一个晶体管的轮廓都精准得如同复刻。
光刻机的运行原理就像印刷机，又像照相机，只不过它所运用的‘画笔’和‘画板’都更为精细。
“成了！真的成了！”
汪象朝喃喃低语，双手在发抖，嘴里发出‘呵呵呵’的笑声，压抑中带着亢奋。
不一会儿，笑声变得呜咽。
他今年五十九岁，在EUV光源领域已经摸爬滚打了大半辈子。
曾经的他，眼看着自己的人生快要走到尽头，连EUV光源的技术突破也渐渐看不到希望，心里满是无力。
可谁曾想，星源科技会在这时横空出世，不仅打破了僵局，更给华国自主研发光刻机带来了全新的希望。
如今造出了EUV光刻机和烛龙 G1051五轴联动数控机床，往后华国芯片产业和高端制造业，总算不用再看别人脸色了！
汪象朝抹了把脸，想把激动的泪水憋回去，可嘴角却控制不住地往上扬，最后索性也